Koch Chemie Pasta Polerska H9.02 Mocno Ścierna 250ml
Koch Chemie Pasta Polerska H9.02 Mocno Ścierna 250ml

Koch Chemie Heavy Cut H9.02 – pasta polerska do głębokich rys

96,52 zł
Brutto
Pasta polerska do usuwania głębokich rys, swirlów i śladów po papierze 1200 grain. Długi czas pracy, wyraźny evenout – do maszyn orbitalnych i rotacyjnych.
Pojemność

 

Heavy Cut H9.02 – pasta polerska do usuwania głębokich rys i śladów po papierze ściernym

Heavy Cut H9.02 to pasta polerska zaprojektowana do eliminacji głębokich rys, swirlów, mocnego utlenienia oraz śladów pozostawionych przez papier ścierny 1200 grain. Produkt charakteryzuje się długim czasem pracy bez osypywania się i wyraźnym evenout, który pozwala na precyzyjną kontrolę powierzchni roboczej podczas korekty lakieru.

Najważniejsze właściwości

  • Usuwa głębokie rysy, swirle i mocne utlenienie
  • Eliminuje ślady po papierze ściernym 1200 grain
  • Długi czas pracy bez osypywania się
  • Wyraźny evenout ułatwiający kontrolę procesu polerowania
  • Kompatybilna z maszynami orbitalnymi (pad Heavy Cut twardy) oraz rotacyjnymi (pad wełniany)
  • Wymaga finiszowania pastą o mniejszej ścieralności

Zastosowanie

  1. Nałóż pastę na twardy pad Heavy Cut (maszyna orbitalna) lub pad wełniany (maszyna rotacyjna) – dobierz zestaw według typu lakieru
  2. Przeprowadź proces polerowania, kontrolując powierzchnię roboczą dzięki evenout
  3. Po usunięciu defektów przejdź na pastę finiszową w celu uzyskania pełnego połysku

Dane techniczne

  • Producent: Koch Chemie
  • Zastosowanie: Szyby i reflektory
  • Typ: Pasty i mleczka polerskie
Typ produktu
Pasta polerska
Pojemność
1 l
250 ml
Zastosowanie
Szyby i reflektory
KOCH-POL-007
16 Przedmioty
4260188690424
Brak opinii
Komentarze (0)
Na razie nie dodano żadnej recenzji.

16 innych produktów w tej samej kategorii:

Korzystamy z plików cookies, aby zapewnić prawidłowe działanie sklepu, analizować ruch oraz dopasowywać treści do użytkownika. Dalsze korzystanie ze strony oznacza zgodę na ich użycie. Szczegóły znajdziesz w polityce prywatności.